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高纯电子刻蚀气体六氟丙烷HFC-236fa成功研制

高纯1,1,1,3,3,3-六氟丙烷HFC-236fa)在半导体工业中可作为刻蚀气体,用于某些芯片的制造过程。北京宇极科技发展有限公司(以下简称“北京宇极科技”)经潜心研发,成功研制了满足电子刻蚀纯度要求的HFC-236fa,可作为半导体企业的备选气体之一。作为氟化工品生产企业,北京宇极科技独立自主知识产权HFC-236fa提纯工艺技术,可产出4N级高纯产品,亦可根据不同客户的要求,杂质组分进行有针对性的定向去除。

1,1,1,3,3,3-六氟丙烷HFC-236fa),英文名称1,1,1,3,3,3-HexafluoropropaneODP0GWP8060CAS号690-39-1UN3163,化学式CF3CH2CF3。常温常压下是无色无味可液化的气体,化学稳定性好。

HFC-236fa的物化数据

外观与性状

无色无味液化压缩气体

分子量(g/mol

152.04

沸点(at 1.013 bar, ℃)

-1.1

蒸汽压(at 25℃, bar

2.608

密度(at 25℃, g/ml)

1.371

 

HFC-236fa应用

高纯HFC-236fa是一种新型的电子特气,用于半导体及电子产品的刻蚀。HFC-236fa也被用作重要的灭火剂原料

产品规格

纯度等级

4N

纯度

99.99%

杂质组分

N2, O2, H2O, CO2, CO

 

包装信息

钢瓶容积(L)

充装重量(kg)

阀门

10.2

10

CGA 350

47

50

CGA 350

 

运输信息

DOT Name: Liquefied Gas (Hexafluoropropane)

DOT Hazard Class: 2.2

UN No.: UN 3163

DOT Label: Non-flammable Gas

CAS NO.: 690-39-1