半导体电子刻蚀气体一氟甲烷HFC-41成功量产
一氟甲烷（HFC-41, CH3F）在半导体工业中可作为氮化膜的刻蚀气体，用于3D NAND闪存芯片的制造过程。北京宇极科技发展有限公司（以下简称“北京宇极科技”）经潜心研发，成功量产了电子刻蚀气一氟甲烷，打破国内单一厂商在该产品上的业务格局。作为含氟化工品生产企业，北京宇极科技拥有独立自主知识产权HFC-41的生产及提纯工艺技术，可产出4N级高纯产品，亦可能根据不同客户的要求，对杂质组分进行有针对性的定向去除。
一氟甲烷，也称为氟甲烷、甲基氟、氟利昂41、HFC-41、R 41。英文名称methyl fluoride、fluoromethane，ODP为0，GWP为97。CAS号593-53-3，UN号2454，分子式CH3F。常温常压下是无毒、可液化的可燃气体，化学稳定性好。
HFC-41（一氟甲烷）的物化数据
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外观与性状 |
无色无味压缩液化气体 |
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分子量（g/mol） |
34.03 |
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沸点（at 1.013 bar，℃） |
-78.4 |
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蒸汽压（20℃，bar） |
33.56 |
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空气中的可燃范围（%vol) |
5.6-22.2 |
R41（一氟甲烷）的应用
高纯HFC-41是一种绿色、高效的电子特气，用于半导体及电子产品的刻蚀，对硅化物薄膜的刻蚀选择性好，在射频场下一氟甲烷HFC-41会溶解氟离子，进行反应性离子蚀刻。在已申请的应用专利中，涉及HFC-41使用的主要半导体制造商有美国应用材料、英特尔、台湾联华电子、东京威力科创、富士通株式会社、中芯国际集成电路制造、台湾积体电路制造、三星等。另外，已申请刻蚀应用专利的HFC-41生产厂商有大金株式会社、中央硝子、杜邦、巨化等国内外大型氟化工企业。
HFC-41在有机合成和药物合成中，可作为有机分子的选择性氟甲基化试剂。同时，HFC-41也被用作重要农药中间体氟溴甲烷的生产原料。
产品规格
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纯度等级 |
2N, 3N, 4N |
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纯度 |
≥99%, ≥99.9%, ≥99.99% |
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杂质组分 |
N2, O2, H2O, CO2, CO等 |
包装信息
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钢瓶容积(L) |
充装重量(kg) |
阀门 |
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10.2 |
2 |
CGA 350 |
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47 |
8 |
CGA 350 |
运输信息
DOT Name: Methyl Fluoride
DOT Hazard Class: 2.1
UN No.: UN 2454
DOT Label: Flammable Gas
CAS NO.: 593-53-3